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PRODUCTS/ 產(chǎn)品展示
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工業(yè)去離子水處理設備

簡(jiǎn)要描述:工業(yè)去離子水處理設備整機采用模塊化的生產(chǎn),結構合理緊湊,占地面積??;具有完善的控制系統,水滿(mǎn)停機,缺水保護,自動(dòng)清洗,再生增壓等功能,工業(yè)去離子水處理設備是用于滿(mǎn)足各個(gè)行業(yè)使用去離子水需求,多用于電鍍,新材料,鍍膜,精細化工,油墨,超純材料和超純試劑的生產(chǎn)和清洗、電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗、電池產(chǎn)品的生產(chǎn)、半導體產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗、電路板的生產(chǎn)和清洗、其他高科技精細產(chǎn)品的生產(chǎn)等行業(yè),整個(gè)系統是由反滲透系統。

產(chǎn)品目錄
詳細介紹
品牌其他品牌產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)
應用領(lǐng)域醫療衛生,環(huán)保,農業(yè)

1、去離子水設備簡(jiǎn)介:

工業(yè)去離子水處理設備是用于滿(mǎn)足各個(gè)行業(yè)使用去離子水需求,多用于電鍍,新材料,鍍膜,精細化工,油墨,超純材料和超純試劑的生產(chǎn)和清洗、電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗、電池產(chǎn)品的生產(chǎn)、半導體產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗、電路板的生產(chǎn)和清洗、其他高科技精細產(chǎn)品的生產(chǎn)等行業(yè),整個(gè)系統是由反滲透系統、EDI或者混床系統、提純系統組合而成。

2、去離子水設備產(chǎn)水標準:

電導率:0.056-10us/cm

產(chǎn)水量:0.25-50噸/小時(shí)

3、去離子水設備特點(diǎn)
工業(yè)去離子水處理設備整機采用模塊化的生產(chǎn),結構合理緊湊,占地面積??;具有完善的控制系統,水滿(mǎn)停機,缺水保護,自動(dòng)清洗,再生增壓等功能。

另外可選配水質(zhì)超標排放或者超標報警等功能。

4、去離子水工藝選擇
工藝一:預處理系統→一級反滲透系統→EDI→用水點(diǎn)

工藝二:預處理系統→一級反滲透系統→混床→用水點(diǎn)

工藝三:預處理系統→二級反滲透系統→混床→用水點(diǎn)

工藝四:預處理系統→二級反滲透系統→EDI→用水點(diǎn)
工藝五:預處理系統→二級反滲透系統→EDI→提純系統→用水點(diǎn)

工藝六:預處理系統→二級反滲透系統→混床→提純系統→用水點(diǎn)

工藝七:預處理系統→一級反滲透系統→用水點(diǎn)

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